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| 科目一覧へ戻る/Return to the Course List | 2025/09/09 現在/As of 2025/09/09 | 
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                  開講科目名 /Course  | 
                知的財産権法Ⅲ(19以降)/INTELLECTUAL PROPERTY LAW Ⅲ | 
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                  ナンバリングコード /Numbering Code  | 
                    31-3017 | 
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                  開講所属 /Course Offered by  | 
                法学部法律学科/LAW LAW | 
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                  ターム・学期 /Term・Semester  | 
                2025年度/2025 Academic Year 秋学期/FALL SEMESTER | 
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                  曜限 /Day, Period  | 
                火1/Tue 1 | 
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                  開講区分 /semester offered  | 
                秋学期/Fall | 
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                  単位数 /Credits  | 
                2.0 | 
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                  学年 /Year  | 
                3,4 | 
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                  主担当教員 /Main Instructor  | 
                張 睿暎/CHANG Ye Young | 
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                  遠隔授業科目 /Online Course  | 
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                    教員名 /Instructor  | 
                  
                    教員所属名 /Affiliation  | 
            
|---|---|
| 張 睿暎/CHANG Ye Young | 法律学科/LAW | 
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授業の目的・内容                         /Course Objectives  | 
                      
この授業は、法学部の学位授与方針(DP)が示す「法学の専門的知識ならびに法的なものの考え方(リーガル・マインド)およびグローバルな思考力を身に付ける」ことに資するため、知的財産権法に関する専門知識を修得し、知的財産に関する様々な事象について自らの見解を提示し、社会の様々な問題を総合的にとらえ解決策を提示できるようになることを目指すものである。 知的財産権法とは、無体物である情報を保護するための一連の法律の総称であり、産業的な側面の工業所有権法分野と、文化的な側面の著作権法に大別することができる。本講義ではこのうち、工業所有権法に含まれる「意匠法」、「特許法」及び「実用新案法」を取り扱う。 本講義では、意匠法・特許法・実用新案法につき、条文と実際の適用場面(裁判例)の双方を見据えながら制度全体の理解を目指す。 意匠法は工業的なデザインを保護する法律であり、近時の法改正によって改めて脚光を浴びつつある。本講義では、著作権法等他の法律との比較も交えつつその体系を理解する。 また、特許法は発明を保護するための法律であり、実社会においても極めて重要な役割を果たしているほか、工業所有権法の中核的な法律であることから、その保護制度の体系を理解することは重要である。あわせて、特許法と関連が深い実用新案法についても理解する。  | 
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授業の形式・方法と履修上の注意                         /Teaching method and Attention the course  | 
                      
本講義は対面の講義形式で行うが、可能な限りインタラクティブな授業とするため、随時受講生からの発言や質問を求める。授業内容に対する質問は随時受け付ける。質問に対する回答やコメント等は、適宜manabaに掲載する。 授業に出席する際は、毎回教科書・講義資料と意匠法・特許法・実用新案法が掲載された六法(又は最新ウェブ上の条文を印刷したもの)を持参すること。 初回の授業では授業全体の進め方についてガイダンス及び第1回目授業を行うため、必ず出席してほしい。  | 
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事前・事後学修の内容                         /Before After Study  | 
                      授業前には、あらかじめ指定した教科書の該当部分と、事前にmanabaに掲載する講義資料を予習する必要がある(1時間)。また、授業後には、教員の口頭説明内容と自分のノート筆記を踏まえて教材を復習し、manaba上で実施する小テストに取り組むことが求められる(3時間)。 | ||||||||||
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テキスト1                         /Textbooks1  | 
                      
                      
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テキスト2                         /Textbooks2  | 
                      
                      
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テキスト3                         /Textbooks3  | 
                      
                      
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参考文献等1                         /References1  | 
                      
                      
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参考文献等2                         /References2  | 
                      
                      
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参考文献等3                         /References3  | 
                      
                      
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評価方法                         /Evaluation  | 
                      
期末試験(70%):事例検討の記述式問題を数問出題する。授業全体を通じて学んだ法的知識を用いて、意匠や特許に関する紛争事例を法的に検討できるかを評価する。追試は実施しない。 授業後の小テスト(20%)manaba上の穴埋め式クイズで、当該授業における基本概念を理解したかを確認する。 授業への参加度(10%):受講態度、授業中の発言などから総合的に評価する。  | 
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関連科目                         /Related Subjects  | 
                      知的財産法各法のうち、著作権法については「知的財産権法I(春)」で、不正競争防止法・商標法については「知的財産権法II(春)」で扱う。いずれも相互に関連するので、あわせて受講することが望ましい。 | ||||||||||
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備考                         /Notes  | 
                      新型コロナウイルス感染拡大の状況によっては、授業形態や試験実施の形態が変更される可能性がある。 | ||||||||||
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到達目標                   /Learning Goal  | 
                意匠法および特許法に関する条文、重要な裁判例、学説を正確に解釈し、個別の事象について見解を示すことができるようにする。 | ||||||||||
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                  DPとの関連 /Relation to DP  | 
              ○:法学の専門的知識 ○:リーガル・マインド △:問題発見・解決実践力 △:社会的責任 △:社会貢献 △:問題解決への実践力  | 
            
| 回 /Time  | 
          授業計画(主題の設定) /Class schedule  | 
          授業の内容 /Contents of class  | 
          事前・事後学修の内容 /Before After Study  | 
              
|---|---|---|---|
| 1 | 授業のガイダンス、知的財産法総論、特許法・実用新案法・意匠法の概要 | 開講に当たり、授業の進め方についてのガイダンスを行う。また、知的財産保護制度の全体像と、意匠法、特許法及び実用新案法の位置づけを紹介したうえで、これらの法律の概要を説明する。 | |
| 2 | 意匠法1:意匠登録要件①(意匠該当性、工業上の利用可能性、新規性) | 意匠の登録要件のうち、意匠該当性、工業上の利用可能性及び新規性を扱う。特に意匠該当性については、近時の法改正を踏まえて重点的に取り上げる。 | |
| 3 | 意匠法2;意匠登録要件②(創作非容易性、先願、不登録事由) | 前回の授業に続き、創作非容易性を中心に他の登録要件を取り上げる。 | |
| 4 | 意匠法3:登録手続、意匠権の効力、意匠権侵害、消滅 | 意匠権の効力と、侵害が成立する要件を中心に解説する。 | |
| 5 | 特許法1:特許登録要件①(発明該当性) | 特許法の保護対象である「発明」の意義について、実例をふまえながら検討する。 | |
| 6 | 特許法2:特許登録要件②(産業上の利用可能性、新規性) | 特許登録要件のうち、産業上の利用可能性と新規性について、特に重要な後者を中心に取り上げる。 | |
| 7 | 特許法3:特許登録要件③(進歩性、先願、不登録事由) | 前回に続いて、特許登録要件を取り扱う。特に問題とされることの多い進歩性について、その判断方法を重点的に取り上げる。 | |
| 8 | 特許法4:登録手続①(発明者、冒認出願、職務発明) | 特許登録手続に関連して、発明者の概念、冒認出願とその救済手段、さらに実務上重要な職務発明制度を取り上げる。 | |
| 9 | 特許法5:登録手続②(出願方法、審査の流れ) | 特許庁で行われる審査のプロセスを中心に解説する。 | |
| 10 | 特許法6:登録手続③(出願者及び第三者の主張) | 特許登録手続に関連して、出願者が特許査定を受けるために取り得る手段や、第三者がその効力を争うために取り得る手段について取り上げる。 | |
| 11 | 特許法7:特許権の利用、消尽、効力の制限 | 特許権者が行う実施許諾(ライセンス)に関する問題や、特許権の効力が及ばない場面について検討する。 | |
| 12 | 特許法8:特許権侵害、均等論 | 特許権侵害の成否につき、その判断方法を解説する。あわせて、特許権の権利範囲を広げるための理論である均等論についても取り上げる。 | |
| 13 | 特許法9:間接侵害、特許権侵害に対する救済、消滅 | 特許権を実効的に保護するための制度である間接侵害について検討する。また、侵害に対する救済として差止請求権と損害賠償請求権を中心に取り上げ、最後に特許権の消滅事由にも触れる。 | |
| 14 | 実用新案法、全体のまとめ | 実用新案制度について、特許法との差異を中心に概要を紹介する。そのうえで、講義全体のまとめを行う。 |