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授業情報/Class Information

科目一覧へ戻る/Return to the Course List 2021/08/23 現在/As of 2021/08/23

基本情報/Basic Information

開講科目名
/Course
知的財産権法b(18以前)/INTELLECTUAL PROPERTY LAW b
開講所属
/Course Offered by
法学部法律学科/LAW LAW
ターム・学期
/Term・Semester
2021年度/2021 Academic Year  秋学期/FALL SEMESTER
曜限
/Day, Period
火1/Tue 1
開講区分
/semester offered
秋学期/Fall
単位数
/Credits
2.0
学年
/Year
3,4
主担当教員
/Main Instructor
園部 正人

担当教員情報/Instructor Information

教員名
/Instructor
教員所属名
/Affiliation
園部 正人 法律学科/LAW
授業の目的・内容
/Course Objectives
知的財産権法とは、無体物である情報を保護するための一連の法律の総称であり、産業的な側面の工業所有権法と、文化的な側面の著作権法に大別することができる。本講義ではこのうち、工業所有権法に含まれる意匠法、特許法及び実用新案法を取り扱う。
意匠法は工業的なデザインを保護する法律であり、近時の法改正によって改めて脚光を浴びつつある。本講義では、著作権法等他の法律との比較も交えつつその体系を理解することを目指す。
また、特許法は発明を保護するための法律であり、実社会においても極めて重要な役割を果たしているほか、工業所有権法の中核的な法律であることから、その保護制度の体系を理解することは重要である。あわせて、特許法と関連が深い実用新案法についてもその概要を示す。
授業の形式・方法と履修上の注意
/Teaching method and Attention the course
本講義は対面式、講義形式で行い、随時受講生からの発言や質問を求める。
授業に出席する際には、毎回教科書・講義資料と特許法、実用新案法及び意匠法の条文を持参すること。小型の六法には実用新案法や意匠法は掲載されていないことが多いので注意。その場合は「e-gov法令検索」等のウェブサイトに掲載された条文を印刷したものでもよい。
初回の授業では授業全体の進め方についてのガイダンスを行うので、必ず出席してほしい。
事前・事後学修の内容
/Before After Study
授業前には、あらかじめ指定した教科書の該当部分と、事前にmanabaに掲載する講義資料を予習する必要がある(2時間)。また、授業後には講義で扱われた内容を踏まえて改めてこれらの教材を復習することが求められる(2時間)。
テキスト1
/Textbooks1
書籍名
/Title
知的財産法入門(第3版)
著者
/Author name
茶園成樹編
出版社
/Publisher
有斐閣
ISBN
/ISBN
978-4-641-24342-2
その他(任意)
/other
2020
テキスト2
/Textbooks2
書籍名
/Title
著者
/Author name
出版社
/Publisher
ISBN
/ISBN
その他(任意)
/other
テキスト3
/Textbooks3
書籍名
/Title
著者
/Author name
出版社
/Publisher
ISBN
/ISBN
その他(任意)
/other
参考文献等1
/References1
書籍名/サイト名
/Title
知的財産権制度入門(2020年度版)
著者
/Author name
特許庁
出版社/URL
/Publisher
https://www.jpo.go.jp/news/shinchaku/event/seminer/text/document/2020_nyumon/all.pdf
ISBN
/ISBN
その他(任意)
/other
参考文献等2
/References2
書籍名/サイト名
/Title
(その他の参考文献は授業で紹介する。)
著者
/Author name
出版社/URL
/Publisher
ISBN
/ISBN
その他(任意)
/other
参考文献等3
/References3
書籍名/サイト名
/Title
著者
/Author name
出版社/URL
/Publisher
ISBN
/ISBN
その他(任意)
/other
評価方法
/Evaluation
授業内容を踏まえた出題内容の期末試験(80%)とmanabaによる授業後の小テスト(20%)で評価する。
関連科目
/Related Subjects
知的財産法各法のうち、著作権法については「知的財産権法Ⅰ」で、不正競争防止法・商標法については「知的財産権法Ⅱ」で扱われる。いずれも相互に関連するので、あわせて受講することが望ましい。
備考
/Notes
新型コロナウイルス感染拡大の状況によっては、授業形態や定期試験の実施形態が変更される可能性がある。
到達目標
/Learning Goal
特許法、実用新案法に関する条文、重要な裁判例、学説を正確に解釈し、個別の事象について見解を示すことができるようにする。

/Time
授業計画(主題の設定)
/Class schedule
授業の内容
/Contents of class
事前・事後学修の内容
/Before After Study
1 授業のガイダンス、知的財産法総論、特許法・実用新案法・意匠法の概要 開講に当たり、授業の進め方についてのガイダンスを行う。また、知的財産保護制度の全体像と、意匠法、特許法及び実用新案法の位置づけを紹介したうえで、これらの法律の概要を説明する。
2 意匠法1:意匠登録要件①(意匠該当性、工業上の利用可能性、新規性) 意匠の登録要件のうち、意匠該当性、工業上の利用可能性及び新規性を扱う。特に意匠該当性については、近時の法改正を踏まえて重点的に取り上げる。
3 意匠法2;意匠登録要件②(創作非容易性、先願、不登録事由) 前回の授業に続き、創作非容易性を中心に他の登録要件を取り上げる。
4 意匠法3:登録手続、意匠権の効力、意匠権侵害、消滅 意匠権の効力と、侵害が成立する要件を中心に解説する。
5 特許法1:特許登録要件①(発明該当性) 特許法の保護対象である「発明」の意義について、実例をふまえながら検討する。
6 特許法2:特許登録要件②(産業上の利用可能性、新規性) 特許登録要件のうち、産業上の利用可能性と新規性について、特に重要な後者を中心に取り上げる。
7 特許法3:特許登録要件③(進歩性、先願、不登録事由) 前回に続いて、特許登録要件を取り扱う。特に問題とされることの多い進歩性について、その判断方法を重点的に取り上げる。
8 特許法4:登録手続①(発明者、冒認出願、職務発明) 特許登録手続に関連して、発明者の概念、冒認出願とその救済手段、さらに実務上重要な職務発明制度を取り上げる。
9 特許法5:登録手続②(出願方法、審査の流れ) 特許庁で行われる審査のプロセスを中心に解説する。
10 特許法6:登録手続③(出願者及び第三者の主張) 特許登録手続に関連して、出願者が特許査定を受けるために取り得る手段や、第三者がその効力を争うために取り得る手段について取り上げる。
11 特許法7:特許権の利用、消尽、効力の制限 特許権者が行う実施許諾(ライセンス)に関する問題や、特許権の効力が及ばない場面について検討する。
12 特許法8:特許権侵害、均等論 特許権侵害の成否につき、その判断方法を解説する。あわせて、特許権の権利範囲を広げるための理論である均等論についても取り上げる。
13 特許法9:間接侵害、特許権侵害に対する救済、消滅 特許権を実効的に保護するための制度である間接侵害について検討する。また、侵害に対する救済として差止請求権と損害賠償請求権を中心に取り上げ、最後に特許権の消滅事由にも触れる。
14 実用新案法、全体のまとめ 実用新案制度について、特許法との差異を中心に概要を紹介する。そのうえで、講義全体のまとめを行う。

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